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AH60P18D_AHD4903_N+PMOS管_30V-800V功率MOS管供应

AHD4903 N+PMOS TO252-4 (N参数是40V 23A,P参数是-40V -20A)低内阻AH60P18D PMOS TO252 (参数是-60V -65A)低内阻电源芯片里一定会用到···

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AHD4903 N+PMOS TO252-4 (N参数是40V 23A,P参数是-40V -20A)低内阻

AH60P18D  PMOS    TO252   (参数是-60V -65A)低内阻

电源芯片里一定会用到不同参数的MOS,MOS中有分NMOS PMOS N+PMOS  

双NMOS 和单NMOS,比如:一颗外挂MOS的芯片AH1101 12V升24V 1A

选用一颗60V 4A以上的NMOS即可 AH1101+AH460)

      MOS管又称场效应管,即在集成电路中绝缘性场效应管。MOS英文全称为Metal-Oxide-Semiconductor即金属-氧化物-半导体,确切的说,这个名字描述了集成电路中MOS管的结构,即:在一定结构的半导体器件上,加上二氧化硅和金属,形成栅极。MOS管的source和drain是可以对调的,都是在P型backgate中形成的N型区。在多数情况下,两个区是一样的,即使两端对调也不会影响器件的性能,这样的器件被认为是对称的。MOS管的工作原理(以N沟道增强型MOS场效应管)它是利用VGS来控制“感应电荷”的多少,以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况,然后达到控制漏极电流的目的。在制造管子时,通过工艺使绝缘层中出现大量正离子,故在交界面的另一侧能感应出较多的负电荷,这些负电荷把高渗杂质的N区接通,形成了导电沟道,即使在VGS=0时也有较大的漏极电流ID。当栅极电压改变时,沟道内被感应的电荷量也改变,导电沟道的宽窄也随之而变,因而漏极电流ID随着栅极电压的变化而变化。

MOS.png


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